新型含硅共轭聚合物的合成及表征

摘要：

通过Sonogashira偶联反应合成了主链含苯环和炔基,侧基含有机硅基的新型含硅共轭聚合物.用1H-NMR、GPC对聚合物进行了表征,并用TGA、DSC对其进行了热性能分析,对其基本光物理性质采用UV-Vis、FL进行了初步研究.

关键词： 共轭聚合物 硅基取代基 偶联反应 热性能

作者: 方雷 徐彩虹

作者单位: 中国科学院化学研究所,北京分子科学国家实验室,北京 100190

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届中国有机硅学术交流会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 92-94

在线出版日期: 2008-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）