AZ91D镁合金微弧氧化工艺参数的研究
微弧氧化技术是一种在金属表面原位生长陶瓷膜的先进成形技术,是镁合金表面处理技术的重点发展方向,微弧氧化过程复杂,选择合适的工艺参数,优化工艺过程.对进一步提高膜层的性能来说至关重要。本课题通过试验研究了电流密度、占空比、频率和氧化时间对AZ91D镁合金陶瓷膜性能的影响,对工艺参数进行了优化。试验结果表明,AZ91D镁合金微弧氧化最佳的工艺参数:电流密度为1.0 A/dm2、频率为600 Hz、占空比为20%、微弧氧化时间为20 min。
微弧氧化技术 AZ91D镁合金 工艺参数 陶瓷膜性能 优化工艺
阎峰云 范松岩 强旭东 张文群
兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室 兰州理工大学有色金属合金及加工教育部重点实验室
国内会议
第十二届全国特种铸造及有色合金学术年会、第六届全国铸造复合材料学术年会暨2008年福建省铸造学术年会
福州
中文
240-242
2008-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)