ECR PECVD制备用于平面光波导的SiO<,2>薄膜及掺Ge-SiO<,2>/Si类薄膜的研究

摘要：

采用微波电子回旋共振等离子本增强化学气相沉积技术在单晶硅衬底上制备用于平面光波导的SiO<,2>薄膜，研究了沉积速率与工艺参数这间的关系，并对射频偏置对成膜特性的影响作了初步实验研究。

关键词： 电子回旋共振 平面光波导 SiO<,2>薄膜 Ge-SiO<,2>/Si类薄膜

作者: 张劲松 任兆杏 梁荣庆 隋毅峰 刘卫

作者单位: 中国科学院等离子体物理研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国等离子体科学技术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 101-104

在线出版日期: 1999-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）