ECR等离子体辅助反应脉冲激光沉积化合物薄膜

摘要：

将脉冲激光沉积与ＥＣＲ微波放电等离子体结合，进行了制备化合物薄膜的初步尝试，合成沉积了氮化硅、氧化硅、氮化铝薄膜。采用俄歇电子能谱等方法进行了分析表征，结果表明这种方法可以用于多种化合物薄膜的制备。另外还就成膜的过程和机制进行了一些探讨。

关键词： 电子回旋共振 脉冲激光沉积 薄膜 化合物薄膜 等离子体 微波放电等离子体 制备

作者: 孙剑 钟晓霞 周筑颖

作者单位: 材料改性国家重点联合实验室,复旦大学物理系(上海) 交通大学应用物理系 大学现代物理研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 203～205

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）