沉淀纳米SiO2的聚硅氧烷原位改性及应用研究

摘要：

以聚醚改性羟基官能聚二甲基硅氧烷为改性剂,采用化学沉淀-原位改性法合成纳料SiO2.研究了聚硅氧烷原位改性对纳米SiO2特性的影响,并考察了其作为消光剂在醇酸清漆中的应用效果.结果表明,原位改性制得了粒径分布均匀、分散稳定性高的纳米SiO2,其在醇酸清漆中具有高的消光效率,同时能改善漆的透光度.

关键词： 纳米二氧化硅 聚硅氧烷 原位改性 醇酸清漆 消光剂

作者: 余慧明 陈雪梅

作者单位: 华东理工大学料科学与工程学院,上海 200237 华东理工大学国家超细粉末工程研究所,上海 200237

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008全国无机硅化物行业协会年会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 82-85

在线出版日期: 2008-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）