Al2O3薄膜制备及其性能研究
本文采用α-Al2O3陶瓷靶材,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了非晶Al2O3薄膜，利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)研究了薄膜的相组成和表面形貌。利用划痕仪、表面粗糙轮廓仪测量薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度，利用阻抗仪和材料表面性能测试仪研究了薄膜的介电性能和耐磨性能,同时还研究了薄膜的耐腐蚀特性。实验结果表明：制备的非晶Al2O3薄膜表面平滑致密,随着溅射功率和工作气压的增加,薄膜沉积速率增加,薄膜表面颗粒增大，同时随着溅射功率的增加,薄膜介电常数逐渐增加、介电损耗逐渐减小,低功率沉积制备的Al2O3薄膜介电常数为3.2，Al2O3薄膜与基片的结合力为29.6N,摩擦系数为0.18,且具有良好的耐腐蚀特性。
非晶铝薄膜 磁控溅射 薄膜颗粒 介电损耗
刘红飞 程晓农 张志萍
江苏大学,材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013
国内会议
天津
中文
365-368
2008-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）