FeCl3-石墨插层化合物的XPS研究

摘要：

本文以氯化铁(FeCl3)与石墨为原料,利用真空热处理方法制备了氯化铁(FeCl3)-石墨的插层化合物(GICs)，运用X射线衍射(XRD)分析石墨插层化合物。结果表明：经热处理后,在石墨和FeCl3的比例为1:1.7时,FeCl3与石墨形成了纯五阶的石墨的插层化合物。XRD分析表明,对网状层面结构的天然石墨,可以利用物理的方法使一些非碳反应物(原子、分子、离子、或粒子团)插入石墨层间,从而改变石墨的层面结构,使产物出现新的物理性质和化学性质，X射线光电子能谱(XPS)分析和表征了Fe离子以三价的形式存在于石墨插层化合物中。

关键词： FeCl3-石墨化合物 插层化合物 层面结构 结构化学

作者: 张艳 刘旭光 许并社

作者单位: 太原理工大学,新材料界面科学与工程教育部重点实验室,山西,太原,030024;太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024 太原理工大学,新材料界面科学与工程教育部重点实验室,山西,太原,030024;太原理工大学,化学化工学院,山西,太原,030024

会议类型: 国内会议

会议名称: 二〇〇八全国功能材料科技与产业高层论坛

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 206-208

在线出版日期: 2008-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）