氧分量对WOx薄膜红外光谱性能的影响
本文采用射频磁控溅射工艺,在ITO/PET柔性衬底上低温制备氧化钨电致变色薄膜，利用傅立叶红外光谱仪及其附件分析了不同氧分量条件下氧化钨薄膜着色态和退色态的红外特性。实验结果表明：在500～3000cm-1区域,氧分量对薄膜的红外透射率影响不大,但是在3000～4000cm-1区域薄膜的着、退色态的红外透射率会随着氧分量的增加而增大，同时可发现在1500～3000cm-1数范围内,薄膜着、退色态的红外反射率调节范围会随着氧分量的增加而缩小。
变色薄膜 电致变色 薄膜光学 磁控溅射 氧分量
范芸 唐武 翁小龙 邓龙江
电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
国内会议
天津
中文
154-156
2008-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）