基板温度对Co-Pt-P薄膜结构与磁性能的影响
本文将Co-P薄片作为溅射靶材,在Si(100)基片上制备了Co-Pt-P三元合金薄膜,并借助振动样品磁力计和X射线衍射仪,研究了基板温度对薄膜磁性能与晶体结构的影响。结果表明,室温下添加2.3％(原子分数,以下同)P元素,使得薄膜的矫顽力提高,添加7％P元素时,薄膜成为非晶态，随基板温度的提高,Co-12％Pt-2.3％P薄膜的面内矫顽力逐渐下降,而垂直膜面的矫顽力有所提高，随基板温度的升高,Co-12％Pt-7％P薄膜由非晶态逐渐晶化。当基板温度＜200℃时,薄膜为非晶态,当基板温度为400℃时,薄膜完全转变为晶态。
合金薄膜 磁控溅射 晶体结构 磁矫顽力 基板温度 磁性能
杨波 肖娜 裴文利 任玉平 赵骧 秦高梧
东北大学,材料各向异性与织构教育部重点实验室,辽宁,沈阳,110004
国内会议
天津
中文
125-127
2008-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）