一种新型多功能离子注入/镀膜系统介绍
基于材料表面镀膜处理技术的多样性,为了克服单一镀膜工艺的不足,中国科学院上海硅酸盐研究所提出并委托研制了一种新型多功能离子注入镀膜系统。该系统集脉冲阴极弧离子镀、直流阴极弧离子镀、磁控溅射和电子束蒸发等镀膜工艺以及气体和金属离子注入于一体。本文通过对比研究了脉冲阴极弧离子镀、直流阴极弧离子镀、磁控溅射和离子注入在单晶硅基体上钛离子注入和沉积,并采用扫描俄歇微探针仪分析薄膜组成,原子力显微镜分析薄膜表面形貌。研究结果表明,在相同的时间下直流阴极弧离子镀和磁控溅射成膜较厚,具有磁过滤功能的脉冲和直流阴极弧离子镀成膜质量优于磁控溅射。
离子注入 磁控溅射 表面镀膜 镀膜工艺
孟凡浩 刘宣勇
中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 200050
国内会议
武汉
中文
344-347
2008-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）