偏压对316L不锈钢上磁控溅射镀铝膜结构的影响研究
采用磁控溅射方法在316L不锈钢基体上沉积铝薄膜,分别采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对不同负偏压下沉积的铝膜进行表面形貌及相结构研究。实验结果表明:当基体负偏压低于120V时,Al膜在(111)面择优生长趋势随偏压的升高而减弱;当偏压超过120V并继续升高时,Al膜在(111)面择优生长趋势又得到增强。薄膜晶粒尺寸随基体负偏压的升高,呈现先减小后增加的趋势。在120V偏压下制备出晶粒细小,组织致密的铝膜。
磁控溅射 不锈钢 铝薄膜 表面形貌 相结构
王玉江 马欣新 唐光泽 张丽芳
哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001
国内会议
武汉
中文
246-248
2008-04-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)