焦磷酸盐体系电沉积铜的择优取向研究
为获得可控织构的电沉积铜层,本文在焦磷酸盐、恒电流电沉积体系下制备了铜镀层,对镀层进行XRD衍射分析,探讨了电流密度、镀层厚度对镀层晶面取向指数的影响,提出了在该体系下获得(111)、(200)择优取向的优化方案。
焦磷酸盐 电沉积铜 铜镀层 电流密度
赵鹏 浦玉萍 张永强
钢铁研究总院粉末冶金研究室,北京,100081
国内会议
武汉
中文
227-229
2008-04-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
焦磷酸盐 电沉积铜 铜镀层 电流密度
赵鹏 浦玉萍 张永强
钢铁研究总院粉末冶金研究室,北京,100081
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2008-04-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)