磁控溅射法制备类金刚石薄膜的摩擦学特性
采用磁控溅射技术在单晶硅表面制备了Ti、C和Ti、Cr、C两种类金刚石薄膜,用原子力显微镜(AFM)和俄歇能谱仪(AES)分析了薄膜的微观形貌和成分分布,用纳米压痕仪测试了薄膜的硬度和弹性模量,考察了薄膜在不同载荷下同GCr15钢球对磨时的摩擦学性能。结果表明:所制备的类金刚石薄膜致密均匀,元素呈梯度分布。Ti、C梯度薄膜由于具有较高的硬度模量比,因此具有较好的抗磨损性能,其在不同载荷下的摩擦系数始终保持在0.1～0.2之间,磨损率在10-7mm3/m的数量级。Cr元素的引入提高了Ti、Cr、C薄膜的硬度和弹性模量,降低了表面粗糙度和摩擦系数,却部分牺牲了薄膜的耐磨损性能。
磁控溅射 类金刚石薄膜 摩擦学性能
王红美 于鹤龙 柳清亮 张伟
装甲兵工程学院装备再制造技术国防科技重点实验室,北京,100072
国内会议
武汉
中文
116-118
2008-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）