Ag/SiO2纳米复合物的制备及研究

摘要：

以HMDSO为单体,氩气为反应气体,采用磁控溅射等离子体技术在单晶硅,载玻片,KBr基片等的表面制备Ag/SiO2纳米复合物。用傅立叶红外透射光谱(FTIR),原子力显微镜(AFM)等手段对纳米复合物薄膜进行结构、亲疏水性和形貌分析。着重研究了等离子体工艺参数,工作气压等对沉积薄膜结构性能的影响。

关键词： 磁控溅射 纳米复合物 等离子体 工艺参数 工作气压

作者: 廖艳 霍纯青 蔡惠平 陈强

作者单位: 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理及材料研究室,北京,102600

会议类型: 国内会议

会议名称: 第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 84-86

在线出版日期: 2008-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）