ICP增强磁控溅射沉积ZrN薄膜的力学性能研究
利用电感耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在Si(111)片和M2钢表面制备了ZrN薄膜。研究N2流量在0.5～1.0sccm范围内ZrN薄膜的结构和性能变化关系。XRD结果表明ZrN(111)是薄膜的择优取向；EDX显示薄膜中N/Zr原子数目比例从1.25增至1.43,表明制备的是富N薄膜；SEM照片显示薄膜都是由粒状结构组成,未发现贯穿薄膜厚度的柱状晶体；薄膜的应力均为压应力,大小在-1.5Gpa左右,薄膜的硬度由35GPa降低至28GPa。
感应耦合等离子体 磁控溅射 纳米硬度 力学性能 薄膜
刘峰 孟月东 任兆杏
中国船舶重工集团公司第七二五研究所,海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室,青岛,266071 中科院等离子体研究所,合肥,230031
国内会议
武汉
中文
249-252
2008-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）