钛及钛合金表面“活性膜”的生成和直接电镀工艺研究
介绍了钛(TA2)及钛合金(TC4)经活化处理,生成“活性膜”的工艺,通过电子能谱分析确定了“活性膜”生成机理及在“活性膜”上直接电镀的可行性。
钛 钛合金 活性膜 电镀工艺
张景双 杨哲龙 安茂忠 屠振密
哈尔滨工业大学 150001
国内会议
哈尔滨
中文
292-293
2003-01-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
钛 钛合金 活性膜 电镀工艺
张景双 杨哲龙 安茂忠 屠振密
哈尔滨工业大学 150001
国内会议
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292-293
2003-01-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)