超净高纯试剂的质量要求和检测要求

摘要：

超净高纯试剂是集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造过程中的关键性基础化工材料之一，主要用于芯片的清洗和腐蚀。具有品种多、用量大、技术要求高等特点。在现阶段，集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造过程中，仍普遍沿用湿法工艺。因此，超净高纯试剂在电路制造中更不失其重要意义。由于不同类型的杂质对器件和电路的危害不同，因此分别制定了杂质最高含量指标。随着集成度和线宽微细化程度的不断提高，对超净高纯试剂提出了更高的质量要求，本文分析了超净高纯试剂的质量要求和检测要求。

关键词： 超净高纯试剂 集成电路 湿法工艺 电路制造

作者: 何禄宽

作者单位: 天津市风船化学试剂科技有限公司 300240

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子专用化学品高新技术与市场研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 122-124

在线出版日期: 2004-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）