高纯氨和高纯三甲基镓规模化生产技术

摘要：

高纯氨和高纯三甲基镓是金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)技术生产第三代半导体材料-氮化镓的关键支撑材料。金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)技术制备氮化镓(GaN)，要求所使用的高纯氨和高纯三甲基镓必需高纯超净，其纯度水平为99.9999％(6N)。本文介绍了高纯氨和高纯三甲基镓的关键技术及其应用。

关键词： 高纯氨 高纯三甲基镓 气相淀积 半导体材料

作者: 赵毅

作者单位: 大连保税区科利德化工科技开发有限公司 116600

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子专用化学品高新技术与市场研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 91-93

在线出版日期: 2004-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）