电子级氯化氢产品及其生产工艺

摘要：

随着电子工业向着大尺寸、高集成化、高均匀性和高完整性方向的发展，要求用于单晶硅片气相抛光和外延机座腐蚀的电子级氯化氢不仅应具有99.999％以上的纯度，而且要求THC、H2O和金属离子等有机杂质的含量越低越好。本文介绍了电子级氯化氢产品，并就其生产工艺进行探讨。

关键词： 电子工业 单晶硅片 气相抛光 氯化氢 生产工艺

作者: 张吉瑞

作者单位: 北京华宇同方化工科技开发有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子专用化学品高新技术与市场研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 83-90

在线出版日期: 2004-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）