ULSI中CMP纳米磨料制备技术的研究

摘要：

本文介绍了河北工业大学微电子研究所发明成果：15～20 nm铜的CMP碱性抛光液、阻挡层CMP碱性抛光液、用于介质CMP的120nm水溶胶磨料抛光液、内连线钨和铝插塞的CMP纳米SiO2磨料碱性抛光液及ULSI硅衬底CMP抛光液及切削液、磨削液、倒角液和应力控制技术等研究成果。

关键词： 超大规模集成电路 碱性抛光液 水溶胶 纳米磨料

作者: 刘玉岭 檀柏梅 李薇薇

作者单位: 河北工业大学微电子研究所 300130

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子专用化学品高新技术与市场研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 77-82

在线出版日期: 2004-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）