我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展

摘要：

本文根据集成电路等制作技术不同发展阶段对超净高纯试剂和光刻胶的不同要求，阐述了国内外超净高纯试剂和光刻胶的现状、应用及发展状况等。

关键词： 超净高纯试剂 光刻胶 集成电路

作者: 穆启道

作者单位: 北京化学试剂研究所 100022

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子专用化学品高新技术与市场研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 15-24

在线出版日期: 2004-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）