会议专题

硅晶片生产工艺中的清洗技术

本文指出了清洗工艺在集成电路制程中的重要性,详细介绍了目前广泛采用的几种清洗方法的清洗原理、特点、存在的问题以及发展的方向。

硅晶片生产 集成电路制程 清洗工艺 表面活性剂 超声清洗

李薇薇

河北工业大学微电子研究所

国内会议

2003年清洗技术国际论坛

北京

中文

129-139

2003-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)