关于SOI(SIMOX)材料在注入过程中粒子污染的研究

摘要：

本文阐述了注氧机在制作SOI(SIMOX)材料时，注入过程对顶层硅中产生粒子污染的影响，结合SIMS测试结果，从光路结构、电器参数、靶室等方面阐述粒子污染的机理，并提出了相应的解决措施。

关键词： 集成电路 芯片制造 注氧工艺 粒子污染

作者: 刘咸成 唐景庭 伍三忠 贾京英 郭建辉 刘求益

作者单位: 中国电子科技集团公司第四十八研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003中国国际集成电路研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 273-276

在线出版日期: 2003-03-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）