电弧离子镀与磁控溅射工艺制备TiAIN膜层的技术进展

摘要：

综合介绍了目前国内外利用磁控溅射和电弧离子镀这两种工艺制备TiAlN薄膜以及影响TiAlN薄膜制备的工艺因索。着重分析了铝在TiAlN膜层中作用及对膜层性能的影响。简要介绍了其它合金元素对膜层性能的影响并指出了TiAlN膜层技术的发展趋势。

关键词： 电弧离子镀 磁控溅射工艺 TiN薄膜 TiAlN薄膜 膜层性能

作者: 林小东 傅高升 宋绪丁

作者单位: 福州大学机械工程学院 350007;福建交通职业技术学院 350001 长安大学工程机械学院 710064

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届21省(市、自治区)4市铸造学术会议

会议地点: 南昌

会议语种:中文

页码: 55-60

在线出版日期: 2008-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）