磁控溅射与离子镀技术在高分子核孔膜中的沉积形貌研究
本文中针对磁控溅射镀膜和离子镀两种物理气相沉积方法的不同，开展了高分子纳米核孔膜基的金膜沉积研究，分析了纳米级金粒子在纳米孔中的结晶成核过程及其形貌。结果表明，在同样的高分子纳米核孔膜中，离子镀比磁控溅射镀膜方法得到的膜层表面更为平整，后者在纳米孔内形成高度为1～2μm，大端直径为纳米孔的直径，小端为针状的晶体结构，而同样的沉积时间离子镀得到的结晶体较为圆滑，没有锥状物的出现。同时针对磁控溅射镀膜方法而言，随着镀膜沉积时间的延长，结晶体在纳米孔中的形状保持不变，但纳米孔边缘有明显的收缩趋势。
金薄膜 聚酯膜 纳米孔 磁控溅射镀膜 离子镀 沉积形貌
梁爱凤 杨化伟 王宇钢
北京机械工业自动化研究所 山东省农业机械科学研究所 北京大学重离子物理研究所
国内会议
哈尔滨
中文
125-129
2008-09-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）