100型MEVVA源离子注入机
提高金属蒸汽真空弧（Metal vapor vacuum arc，MEVVA）离子源注入机的注入效率，大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为此设计研制了采用高占空比、大引出面积、凸形高透过率引出电极等技术的100型MEVVA源注入机。本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布，100型MEVVA离子源的结构特点，测试了100型MEVVA源的主要参数，通过靶盘公转自转、0定位自转与45定位自转的复合注入，得到了相当均匀的大面积注入效果。从而为实现工业规模的金属离子注入提供了注入平台。
金属蒸汽真空弧离子源 离子注入机 凸形电极 注入均匀性
吴先映 李强 张荟星 刘安东 彭建华
射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所),100875
国内会议
哈尔滨
中文
48-55
2008-09-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）