直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能

摘要：

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。结果表明,在400～500 ℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜；随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整；其中,500 ℃下退火2 h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。

关键词： 氧化镍薄膜 直流溅射 电化学性能 锂离子电池 阳极材料 纳米晶薄膜 热处理工艺

作者: 蔡羽 仝俊利 张宏斌 赵胜利 祝要民

作者单位: 河南科学大学信息管理研究所 河南洛阳471003 河南科学大学材料科学与工程学院,河南,洛阳,471003

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届中国热处理活动周

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 64-66

在线出版日期: 2008-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）