记录方式对光致聚合物中全息光栅形成过程的影响
根据光致聚合物记录机理，研究了不同记录方式对光栅衍射效率的影响，对已有的光致聚合物光栅形成的一阶扩散模型进行简化，求解出全息曝光、暗增长、均匀后曝光过程对应的折射率调制度的解析式。并应用所得解析结果，对三种记录方式在不同光强下的折射率调制度动态进行数值模拟。实验采用一种新型的蓝敏光致聚合物，分别在4mW/cm2和2mW/cm2的光强下应用不同方式记录光栅。实验结果表明如果曝光光强较高，暗增长的记录方式将获得相对高的饱和折射率调制度，而均匀后曝光会加速达到饱和的进程。
全息存储 光致聚合物 全息光栅
张韬 陶世荃 翟千里 宋伟
齐齐哈尔大学理学院,黑龙江省齐齐哈尔市 161006 北京工业大学应用数理学院,北京 100124
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2008-07-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）