PIII-D方法合成氮掺杂碳基薄膜的表面特性

摘要：

采用等离子浸没离子注入和沉积(PIII-D)方法在室温下合成了氮掺杂碳基薄膜。薄膜的厚度大约200 nm;采用路易斯酸碱对的方法深入研究了薄膜的表面能;用拉曼光谱和X射线光电子能谱分析了薄膜的成分和结构。结果表明：薄膜内氮的掺杂含量和sp2簇并不是随氮气流量增加而持续增加;带隙宽度与薄膜表面能中的酸碱分量比有较好的相关性。

关键词： 氮掺杂碳基薄膜 薄膜表面能 拉曼光谱 带隙 等离子浸没离子注入 沉积法

作者: 文峰 黄楠 孙鸿 王进

作者单位: 热带生物资源教育部重点实验室 海南大学材料与化工学院 海南 海口 570228;材料先进技术教育部重点实验室 四川 成都 610031 材料先进技术教育部重点实验室 四川 成都 610031

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国机械工程学会2008年机械装备结构材料与表面技术研讨会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 83-85,89

在线出版日期: 2008-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）