衬底温度对磁控溅射硅薄膜结构性能的影响

摘要：

采用磁控溅射镀膜技术，在不同衬底温度下沉积硅薄膜，利用拉曼(Raman)散射谱、X射线衍射(XRD)研究了衬底温度对薄膜微结构的影响，并对其结果进行分析讨论。 研究结果表明，随着衬底温度的升高，表征薄膜微结构的晶粒尺寸和晶化率呈现相似的变化规律：当衬底温度较低时，随着温度的升高，硅膜的晶粒尺寸和晶化率增加;当衬底温度超过120℃时，随着温度的进一步升高，薄膜的晶粒尺寸和晶化率都开始降低。

关键词： 硅薄膜 磁控溅射 拉曼光谱 衬底温度 晶粒尺寸

作者: 田桂 朱嘉琦 韩杰才 贾泽纯 姜春竹

作者单位: 哈尔滨工业大学 复合材料与结构研究所，哈尔滨 150001

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国复合材料学术会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 128-132

在线出版日期: 2008-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）