Eu3+掺杂纳米多孔二氧化硅薄膜的制备及其发光性研究

摘要：

以正硅酸乙酯为前驱体，采用溶胶-凝胶技术制备了Eu3+掺杂纳米多孔二氧化硅发光薄膜。SEM和XRD等表征结果表明，薄膜表面颖粒分布均匀，为纳米多孔网络结构和无定形态，分析了不同退火温度和不同Eu3+掺杂浓度对薄膜荧光性能的影响，薄膜发射光谱中出现620nm发射峰，为Eu3+特征发射光谱;随退火温度升高，薄膜发射光的强度增大;当Eu3+掺杂浓度为0.5％时，薄膜发光强度最大。

关键词： Eu3+掺杂 纳米多孔 二氧化硅薄膜 发光性能

作者: 林金辉 魏双凤 王美平

作者单位: 成都理工大学 材料科学与工程系，四川 成都 610059

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008国际粉体技术与应用论坛暨全国粉体产品与设备应用技术交流大会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 318-322

在线出版日期: 2008-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）