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3C-SiC/Si(001)外延层残余应力的Raman光谱研究

该文对用CVD方法外延生长的3C-SiC/S(001)材料的室温Raman光谱进行了分析、并对3C-SiC/Si材料中的残余应力进行了分析和计算。

3C-SiC/Si(001) 外延层 残余应力 Raman光谱

朱建军 庞海

科学院半导体研究所(北京)

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78~81

1998-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)