等离子体环境对ITO薄膜低温生长的作用

摘要：

本文对等离子体环境对ITO薄膜低温生长的作用进行了分析。结果表明，等离子体辅助是低温沉积ITO薄膜的有效手段，适当强度的等离子体处理可以替代加热方法在室温下制备电阻率较低的ITO薄膜，并且不会对柔性高分子基体造成热损伤，为今后柔性基体上的ITO镀膜提供了理论依据。

关键词： 铟锡氧化物 透明薄膜 薄膜制备 低温生长

作者: 张天伟 杨会生 王燕斌 陆永浩

作者单位: 北京科技大学材料物理与化学北京100083

会议类型: 国内会议

会议名称: TFC”07全国薄膜技术学术研讨会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 131

在线出版日期: 2007-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）