使用二氧化钒靶材溅射制备薄膜的工艺研究

摘要：

本文以二氧化钒陶瓷靶为靶材、采用射频磁控溅射和真空退火处理方法，对二氧化钒薄膜的制备工艺进行了研究。

关键词： 功能材料 薄膜制备 磁控溅射 真空退火

作者: 张慧强 斯永敏

作者单位: 国防科技大学航天与材料工程学院，长沙410073

会议类型: 国内会议

会议名称: TFC”07全国薄膜技术学术研讨会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 77

在线出版日期: 2007-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）