脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究

摘要：

本文对脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜进行了研究。结果表明，在脉冲能量55OmJ,温度300℃条件下沉积的Mo薄膜表面附着有较大的颗粒，而且存在有较大的层片状组织。而在低脉冲能量372mJ、温度400℃条件下沉积的Mo薄膜没有明显的大颗粒状物质附着，表面形貌较好。

关键词： 薄膜制备 磁控溅射 脉冲激光 脉冲能量

作者: 吕学超 张永彬 张厚量 任大鹏 郎定木 张延志

作者单位: 表面物理与化学国家重点实验室，四川省绵阳市718信箱35分箱，621900

会议类型: 国内会议

会议名称: TFC”07全国薄膜技术学术研讨会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 33

在线出版日期: 2007-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）