脉冲偏压电弧离子镀基础问题及应用研究

摘要：

本文对脉冲偏压电弧离子镀基础问题进行了研究。结果表明，把脉冲偏压引入电弧离子镀工艺保持了其原有的高离化率、高沉积速率、成膜致密等优点，与传统的直流偏压相比，脉冲偏压引入频率和占空比两个控制变量，对成膜过程有更好的可控性，

关键词： 离子镀层 离子沉积 脉冲偏压 离子镀工艺

作者: 张敏 林国强 董闯 闻立时

作者单位: 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室，大连116024

会议类型: 国内会议

会议名称: TFC”07全国薄膜技术学术研讨会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 7

在线出版日期: 2007-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）