RTP工艺监控研究

摘要：

详细介绍了两种监控RTP设备的方法，分别研究了两种方法的基本原理，通过对两种方法所得结果的详细比较与分析，得出离子注入退火的方法有较好的重复性，在低温段(760～850度)退火后方块电阻和温度有良好的线性关系(R=-0.69X+970.1)，线形相关系数为0.98，此方法可以作为一种监控RTP设备状态的新型手段。

关键词： 快速热处理 离子注入退火 离子激活 RTP设备 工艺监控

作者: 张世权 陈海峰 聂圆燕

作者单位: 中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏 无锡 214035

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会第十三届青年学术年会

会议地点: 无锡

会议语种:中文

页码: 179-182

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）