Monte Carlo模拟化学镀Ni-P薄膜生长过程研究
运用Monte Carlo方法和Srolovitz等人提出的Q-state Potts模型对化学镀Ni-P薄膜生长过程进行了计算机二维形貌模拟,考察了薄膜生长时间对晶粒大小的影响。结果表明:晶粒的长大是一个相互吞噬的动态过程,随着薄膜生长,晶粒逐渐变大,单位表面内晶粒数目减少。但是当薄膜生长约500MCS后,晶粒的平均粒径基本不变,约为9.1个基本单位,相同表面内晶粒数目达到动态平衡,这与实验结果相符。
蒙特卡罗方法 化学镀层 薄膜生长 形貌模拟
李庆成 胡献国 孙晓军
合肥工业大学摩擦学研究所,安徽 合肥 230009 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃 兰州 730000
国内会议
武汉
中文
226-229
2008-05-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)