POM/MoS2插层复合材料的制备及其结晶行为研究
采用原位插层聚合方法制备了聚甲醛/二硫化钼(POM/MoS2)纳米复合材料，探讨了POM在MoS2中的插层机理。由X射线衍射仪(XRD)和透射电镜(TEM)对复合材料的结构和形貌进行了表征。XRD谱图显示聚合物插入MoS2层间，层间距由0.613 nm扩大为1.118 nm；TEM照片表明所制备的POM/MoS2为插层型复合材料，MoS2在聚合物基体中分散良好且保持层状结构。利用差示扫描量热法(DSC)对POM及POM/MoS2纳米复合材料的非等温结晶动力学进行了研究，所得数据用修正Jeziorny法进行处理，发现MoS2的加入能有效地促进POM的异相成核，提高POM的结晶温度及结晶速率。
聚甲醛 二硫化钼 纳米复合材料 结晶行为 插层机理 聚合方法
胡坤宏 汪瑾 胡献国
合肥工业大学摩擦学研究所,安徽 合肥 230009 合肥工业大学化工学院,安徽 合肥 230009
国内会议
武汉
中文
82-85
2008-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）