钛合金表面物理气相沉积TiAIN膜层的成分及微观结构

摘要：

采用高纯铝、钛两个靶材，在TA2和TC11基材上沉积制备了TiAlN膜层。用能谱仪(EDS)分析了膜层的成分，用扫描电镜(SEM)观察了膜层的形貌，用X射线衍射仪(XRD)对膜层的相组成进行分析。结果表明：在不同基材上沉积的膜层表面形貌存在差异；膜层中N、Al和Ti元素呈梯度分布，可明显的观察到界面处存在这三种元素的互扩散，使膜层与基体间形成冶金结合；膜层由TiN、AlN、AlTi3N、Ti和Al相组成。

关键词： 电弧离子镀 相结构 钛合金 微观结构

作者: 王少鹏 潘晓龙 李争显

作者单位: 西北有色金属研究院 腐蚀与防护研究所 西安 710016

会议类型: 国内会议

会议名称: 裕祥杯第十届全国青年腐蚀与防护科技论文讲评会暨第八届中国青年腐蚀与防护研讨会

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 207-212

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）