CVD-W晶粒取向和晶界结构的EBSD研究

摘要：

采用电子背散射衍射技术(EBSD)测定了化学气相沉积纯钨(CVD-W)的晶粒取向和晶界分布特征,研究化学气相沉积方法制备纯钨的组织和晶界结构的特点.测试结果表明:CVD-W生长组织具有三个生长区,分别是等轴晶区、混合生长晶区和柱状晶区;柱状晶区的晶粒具有显著的〈001〉择优生长;低∑CSL晶界占据较大比例,其中以∑3、∑5为主要结构,∑3的出现频率最大.研究认为CVD-W的晶粒取向和晶界结构特点与沉积组织的生长特点密切相关.

关键词： 晶粒取向 晶界结构 镍晶体 EBSD技术 化学气相沉积

作者: 孙红婵 李树奎 候岳翔 鲁旭东 郭伟

作者单位: 北京理工大学材料科学与工程学院,北京,100081

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届全国电子背散射衍射技术及其应用会议

会议地点: 内蒙古包头

会议语种:中文

页码: 286-288

在线出版日期: 2007-08-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）