ZnO-Al<,2>O<,3>固溶层对ZnO单晶厚膜生长的影响研究

摘要：

本文首次在Al<,2>O<,3>衬底上引入ZnO-Al<,2>O<,3>固溶层,并在该衬底上用金属源化学气相外延法(MVPE)生长出了高质量的ZnO单晶厚膜(10微米)。介绍了一种在C面蓝宝石衬底上引入ZnO-Al203固溶层的方法。用双晶X射线衍射仪对样品进行了θ-2θ和rocking curve测量。与直接在C面蓝宝石衬底上生长的ZnO厚膜样品相比,引入ZnO-Al<,2>O<,3>固溶层可明显提高ZnO单晶厚膜择优取向一致性和晶体质量。

关键词： 氧化锌单晶厚膜 MVPE 固溶体 X射线衍射 晶体质量

作者: 何金孝 段尭 崔军朋 曾一平 李晋闽

作者单位: 中科院半导体所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国MOCVD学术会议

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 263-266

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）