绒面结构ZnO薄膜及其湿法刻蚀处理

摘要：

制备出应用于Si基薄膜电池的绒面MOCVD-ZnO薄膜,并尝试相应的CH<,3>COOH湿法刻蚀表面处理。结果表明,处理前后ZnO:B薄膜的微观结构,方块电阻和光学性能变化不大。适当的表面处理有助于使薄膜表面趋于柔和,有望改善ZnO/Si界面特性,从而应用于μc-Si薄膜太阳电池。

关键词： ZnO薄膜 湿法刻蚀 太阳能电池 绒面结构 Si基薄膜电池 表面处理 微观结构

作者: 陈新亮 薛俊明 张德坤 赵颖 耿新华

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室 天津 300071

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国MOCVD学术会议

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 258-260

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）