热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的生长取向及内应力研究

摘要：

采用热丝化学气相沉积法在YG6硬质合金基体上制备出了金刚石薄膜,研究了基片与热丝间的距离以及负偏压对金刚石薄膜的生长取向和内应力的影响。采用扫描电子显微镜对沉积得到的金刚石薄膜的生长取向进行了表征,利用激光Raman光谱对金刚石薄膜的内应力进行了计算。 结果表明:当基片与热丝间的距离保持在4.0～8.5mm,基体温度保持在750～800℃时,沉积出的金刚石膜表面晶形主要为(111)面,其内应力随着距离的增加而逐渐减小,在8.0mm时为最小;但是当基底温度高于800℃时,内应力就会随着温度的升高而增加;最终结果导致膜基附着力减弱。

关键词： 化学气相沉积 金刚石薄膜 薄膜技术 薄膜生长 内应力计算

作者: 邢文娟 汪建华 王传新

作者单位: 武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室,武汉 430073

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国微波能应用学术会议暨2007年国际工业微波节能高峰论坛

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 305-308

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）