高分子波导布拉格光栅滤波器之研制
本论文运用一种复制流程研制高分子波导布拉格光栅滤波器。高分子光栅结构是以全像干涉及微成形制程制作。高分子波导布拉格光栅滤波器经由二阶段铸模制程。首先,具光栅图案的主模仁成型于一负光阻;其次,藉由该负光阻模仁再将光栅图案转移到一个聚二甲基硅氧烷(PDMS)薄膜模仁上;而后,再以聚二甲基硅氧烷(PDMS)模子把光栅图案,转移到经紫外线固化成型的环氧树脂上,进而完成组件的制造。初步实验结果证实,经由本论文的制程可得到高解析的光栅结构,而且在布拉格波长有-15.5 dB之传输降幅及6nm的3dB传输频宽。
高分子波导 布拉格光栅滤波器 全像干涉 微成形制程 光栅结构 聚二甲基硅氧烷
李昆益 林晏瑞 林坤成 庄为群 李伟裕
中华技术学院电机工程学系,11581 台湾台北市南港区研究院路三段245号 虎尾科技大学光电工程学系,63201 台湾云林县虎尾镇文化路64号
国内会议
南京
中文
506-512
2007-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）