四氟化碳的等离子体降解过程

摘要：

四氟化碳现今被大量使用在微电子行业中,它在全氟碳族化合物中最稳定同时在大气中含量最大,而且是大气中的一种强温室气体。本文使用氧气,空气,氩气等离子体采用介质阻挡放电的方法对其进行降解。实验结果显示,氩气等离子体对于CF4降解效果最佳,在外施电压1000V条件下放电4min后降解率可达98.2％,增加等离子体中水汽含量不能提高CF4在等离子体中降解效果。

关键词： 四氟化碳 等离子体 介质阻挡放电 微电子行业 降解效果

作者: 沈燕 黄丽 张仁熙 侯惠奇

作者单位: 复旦大学温室气体研究中心复旦大学环境科学研究所 上海 200433

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国大气环境学术会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 486-492

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）