钕离子印迹聚合物的合成及其吸附选择性研究

摘要：

用热聚合法合成钕离子聚台物,经过无机酸的洗脱,得到一种具有特异选择性和对模板有”记忆”功能的印迹聚合物。通过元素分析、红外、热分析和光声光谱法验证了产物的结构,并研究了该印迹聚合物对模板离子的选择性。实验表明在pH=7.5条件下,吸附20min即达到吸附平衡,此印迹聚合物对Nd3+的饱和吸附容量为35.18mg/g,选择性系数SNd3+/Ln3+达87.61。

关键词： 印迹聚台物 钕离子 热聚合法 吸附平衡

作者: 郭佳佳 苏庆德

作者单位: 中国科学技术大学化学系,合肥 230026

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国稀土元素分析化学学术报告暨研讨会

会议地点: 江苏无锡

会议语种:中文

页码: 39-44

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）