大长度高强度碳涂覆光纤的研制

摘要：

利用改进的CVD工艺制作了大长度高强度的碳密封涂覆光纤。强度筛选测试结果表明,2％筛选通过长度达到了57km,大长度涂覆工艺对光纤涂覆层和光学性能损耗影响不明显。动态测试结果表明疲劳参数到达了147,且抗拉强度达到55N。

关键词： 高强度光纤 碳密封 碳涂覆光纤 耐疲劳性 CVD工艺 光学性能

作者: 潘志勇 任军江 黄剑平 孙小玲 何耀基 顾劭忆 熊婷婷

作者单位: 中国电子科技集团公司第二十三研究所上海 201900

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十三次光纤通信暨第十四届集成光学学术会议

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 168-173

在线出版日期: 2007-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）