掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜的SIMS剖析

摘要：

环境污染是全世界关注的焦点问题。世界上每年会产生无数有毒固体、气体和液体废物，污染了空气和水源。如何利用太阳光这一绿色能源来消除这些有害物质，是目前很受关注的研究课题。本实验利用二次离子质谱方法(SIMS)对在温度为550℃的NH气氛中，激光烧蚀淀积于硅片上的Ti02薄膜进行掺杂杂质氮的深度剖析。

关键词： 掺氮二氧化钛薄膜 二次离子质谱 激光烧蚀淀积 硅片 掺杂杂质氮

作者: 方培源 糜岚 曹永明

作者单位: 复旦大学材料科学系，上海200433 复旦大学光学科学系，上海200433

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国质谱学会无机质谱、同位素质谱、质谱仪器和教育学专业委员会学术交流会

会议地点: 宜昌

会议语种:中文

页码: 106-107

在线出版日期: 2007-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）