电沉积Ni-B合金工艺研究

摘要：

研究了电沉积Ni-B合金工艺中氯化镍,硼氢化钠,乙二胺,酒石酸钾钠,稳定剂及电流密度,温度对镀层中硼含量和镀速的影响。结果表明,控制适当的镀液成分和工艺条件,可获得含硼量为3-4％的镀层,镀速在20μm/h左右。

关键词： 电沉积 Ni-B合金 氯化镍 硼氢化钠 电流密度 镀液成分 工艺条件

作者: 任广军 王昕 张春丽

作者单位: 沈阳理工大学环境与化学工程学院 辽宁沈阳 110045

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十一届轻合金加工学术年会

会议地点: 山东青岛

会议语种:中文

页码: 15-19

在线出版日期: 2000-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）